Etude et simulation sous COMSOL de microstructures antireflet, multicouches pour un photocapteur à double jonction

Abstract

Résumé : Etude d’un photocapteur utilisant une nouvelle technique de détection de couleurs dite structure à double jonctions PN ou Buried double junction BDJ. La quantité de photons pénétrant ce capteur dépend de la réflectivité de sa surface. La réflectivité caractérise la quantité de photons réfléchie par la surface, soit une perte du rayonnement incident. Pour minimiser la réflexion de la lumière en surface, cette dernière est recouverte d’une couche anti-réfléchissante (Anti-Reflective Coatings) ou de plusieurs couches anti-réfléchissantes. Le rôle de la couche antireflet est de réduire la réflectivité de capteur. Cette couche réduit au minimum la réflexion, en ramenant les pertes de réflexion à moins de 2%. Différentes couches anti réflectives sont utilisées, elles peuvent être isolantes comme le TiO2, SiO2, MgF2 et CeF3 ou conductrice comme le ZnO. Mots clés : BDJ, couche antireflet, Sio2, CeF3, MgF2, Zro2.