Traitement De Surface Du Silicium Et Elaboration Par Pulvérisation Ultrasonique Des Couches Minces Antireflet.

Abstract

La connaissance approfondie des traitements de surface du silicium multicristallin et monocristallin suscite un grand intérêt dû à leurs applications dans de nombreux domaines. En effet les différents procédés de traitements donnent aux surfaces des propriétés nouvelles, débouchant sur des applications couvrant des domaines très variés (photovoltaïque PV, capteurs, …). Dans ce travail, nous nous proposons d’étudier les propriétés des substrats du silicium multicristallin traité par attaque chimique et combiné à des couches antireflets spécifiques destinés aux applications des cellules solaires photovoltaïques. L'objectif principal de ce sujet à caractère expérimental consiste à traiter le silicium pour la texturisation de surface du Si-mc, et l’élaboration de couche mince de TiO 2 par pulvérisation ultrasonique et étudier l’effet de la couche antireflet sur les substrats du silicium texturisés.