Dépôt de a-c:H dans un réacteur triode synchronisé par plasma de CH4 exité a 13.56 Mhz

Abstract

Le sujet de cette thèse porte sur l'étude de dépôt de couches minces de carbone amorphe hydrogéné a-C:H dans un réacteur triode synchronisé excité à 13.56 Mhz. Afin de comprendre et contrôler les phénomènes qui se passent lors du dépôt, il est nécessaire d'aborder deux étapes. La première (chapitre I) consiste en l'étude de la décharge luminescente excitée à 13.56 Mhz et la seconde (chapitre II), en l'étude des mécanismes physico-chimiques ayant lieu lors de l'interaction plasma-surface ainsi que le rôle des espèces donnant naissance à un dépôt de couches minces allant d'un polymère à un dépôt de carbone amorphe hydrogéné dur. Le chapitre III est consacré à la présentation des dispositifs expérimentaux utilisés lors de la caractérisation de la décharge et le dépôt. Le chapitre IV est consacré à la caractérisation du réacteur en mode diode et triode et la présentation des résultats expérimentaux. En effet, ce type de réacteur triode, en plus de l'électrode multitube utilisée pour améliorer la densité du plasma, dispose certains avantages, on citera essentiellement l'indépendance entre la création du plasma et l'énergie des ions bombardant le substrat, ce qui nous permet de contrôler les caractéristiques du dépôt. Le dépôt sur deux types de substrats nous a permis de mettre en évidence l'influence de la nature du substrat sur la nature du dépôt