Elaboration et caractérisation structurale des nanostructures de silicium insérées dans une matrice diélectrique de nitrure de silicium.

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DC Field	Value	Language
dc.contributor.author	Addoun, Mohamed	-
dc.date.accessioned	2020-03-09T11:24:20Z	-
dc.date.available	2020-03-09T11:24:20Z	-
dc.date.issued	2016-09	-
dc.identifier.uri	http://di.univ-blida.dz:8080/jspui/handle/123456789/5695	-
dc.description	ill.,Bibliogr.	fr_FR
dc.description.abstract	Le but de ce travail est d'obtenir des nanostructures dans un dépôt de nitrure de silicium SiNx déposée sur un substrat de silicium par la technique PECVD (Plasma Enhanced Chimical Vapor Deposition).Les paramètres variables qu'on a utilisées dans ce projet est le ratio (R=NH3/ SIHA) entre 0.25 à 10, et de trois températures 800°c, 1000°c, 1100°c, avec un temps de recuit lh et 2h ont été élaborées. La caractérisation structurale avec le microscope électronique à balayage, Spectroscopie Raman, SIMS et la DRX montre la présence de silicium amorphe en excès dans le cas sans recuit et les nanostructures de différent diamètre dans les échantillons avec recuit. Mots clés : nanostructure, nitrure de silicium, temps et température de recuit.	fr_FR
dc.language.iso	fr	fr_FR
dc.publisher	Université Blida 1	fr_FR
dc.subject	nanostructure	fr_FR
dc.subject	nitrure de silicium	fr_FR
dc.subject	temps et température de recuit.	fr_FR
dc.title	Elaboration et caractérisation structurale des nanostructures de silicium insérées dans une matrice diélectrique de nitrure de silicium.	fr_FR
dc.type	Thesis	fr_FR
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