Résumé:
Vanadium oxide thin films have attracted considerable attention as potential
candidates for many advanced applications such as: electrochromic devices; thermo
chromic coatings; metal semiconductor transition materials; and electrodes for
batteries. This diverse range of applications is made possible due to the several stable
oxidation states of vanadium oxide (V
2
O
5
, VO
2
, VO, and V
2
O
3
) which depend on the
fabrication process, annealing treatment, and source material.
In this Study, vanadium oxide thin films are prepared by thermal evaporation
method is deposited on glass substrate. The films are annealed under different
temperatures from 400°C to 550°C for various times to obtain desired oxygen phases
of vanadium oxide thin films. After appropriate annealing step, V
2
O
5
structured thin
films are reduced to mixture of lower oxygen states of vanadium oxide thin films which
contains V
2
O
5
, VO
2
and VO
X
. Les films minces d'oxyde de vanadium ont attiré une attention considérable en
tant que candidats potentiels pour de nombreuses applications avancées telles que ;
les dispositifs électrochromiques, les revêtements thermochromiques, les matériaux
de transition métal semi-conducteur et les électrodes pour batteries. Cette diversité
d'applications est rendue possible grâce aux différents états d'oxydation stables de
l'oxyde de vanadium (V
2
O
5
, VO
2
, VO, V
2
O
3
) qui dépendent du procédé de fabrication,
du traitement de recuit et du matériau source.
Dans cette étude, les couches minces d'oxyde de vanadium sont préparées par
évaporation thermique et déposées sur un substrat de verre. Les films sont recuits à
différentes températures de 400°C à 550°C pendant plusieurs temps pour obtenir les
phases d'oxygène souhaitées des films minces d'oxyde de vanadium. Après l'étape de
recuit appropriée, les couches minces structurées de V
2
O
5
sont réduites à un mélange
de couches minces d'oxyde de vanadium à l'état d'oxygène inférieur qui contient V
2
O
5
,
VO
2
et VO
X
.
