Résumé:
RESUME : Ce travail porte sur l’effet de la tension de polarisation du substrat sur les
propriétés des couches minces de carbone élaborées par pulvérisation magnétron. L’étude
électrique du plasma, pour une puissance injectée et pression de gaz fixés, a montré que la
variation de cette tension de polarisation n’a aucun effet sur les autres paramètres
impliqués dans processus de dépôt. Les mesures de cette tension, contrôlant l’énergie de
bombardement de la couche en croissance, ont été corrélées avec diverses analysées de
caractérisation des couches de carbone déposes tels que : Etude structurel réalisée par
spectroscopie Raman, l’étude morphologique par MEB, module de Young et de dureté
Vickers réalisées par Nano indentation.
Mots clés : la tension de polarisation –les couches minces-carbone –la pulvérisation
cathodique magnétron