Implantation ionique et traitements thermiques en technologie silicium

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Élément Dublin Core	Valeur	Langue
dc.contributor.author	BAUDRANT, Annie	-
dc.date.accessioned	2023-10-03T09:15:12Z	-
dc.date.available	2023-10-03T09:15:12Z	-
dc.date.issued	2011	-
dc.identifier.uri	https://di.univ-blida.dz/jspui/handle/123456789/25112	-
dc.description	2.620.180;365p	fr_FR
dc.language.iso	fr	fr_FR
dc.publisher	Paris	fr_FR
dc.subject	Silicium : Substrats.Technologie silicium sur isolant	fr_FR
dc.title	Implantation ionique et traitements thermiques en technologie silicium	fr_FR
Collection(s) :	ouvrage

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