Veuillez utiliser cette adresse pour citer ce document : https://di.univ-blida.dz/jspui/handle/123456789/10410
Affichage complet
Élément Dublin CoreValeurLangue
dc.contributor.authorTOUAHRI, Hadjire-
dc.date.accessioned2021-03-09T09:36:26Z-
dc.date.available2021-03-09T09:36:26Z-
dc.date.issued2013-09-
dc.identifier.urihttp://di.univ-blida.dz:8080/jspui/handle/123456789/10410-
dc.description62 p., ill., cd-rom, 30 cmfr_FR
dc.description.abstractLes cultures fourragères adaptées à la sécheresse développent plusieurs mécanismes morphologiques, physiologiques et biochimiques qui leur permettent de résister à ces conditions contraignantes. Dans ce travail, nous avons fixé comme objectif d’évaluer l’effet et la variabilité de la réponse au déficit hydrique chez cinq populations de l’espèce Lolium rigidum Gaud par études ces mécanismes sous trois niveaux de stress hydrique, un témoin (SDH), stress modéré et stress sévère (MDH 50, ADH 80 % de capacité de champs). Le choix des niveaux du stress hydrique est appliqué au stade de la montaison. Les résultats obtenus montrent que le déficit hydrique a causé des réductions significatives de la surface foliaire, de la teneur relative en eau, du taux de la déperdition de la chlorophylle totale, ainsi qu‘une accumulation importante de la proline au niveau des feuilles. En conclusion, l’étude à montre que le stress hydrique provoque les mêmes mécanismes des réponses chez les cinq populations mais à des degrés différentsfr_FR
dc.language.isofrfr_FR
dc.subjectCulture fourragèrefr_FR
dc.subjectsécheressefr_FR
dc.subjectstress hydriquefr_FR
dc.subjectla tolérancefr_FR
dc.subjectlolium rigidum Gaudfr_FR
dc.subjectMécanismesfr_FR
dc.titleContribution à l’étude de la tolérance à la sécheresse chez quelques populations spontanées du genre Lolium L.fr_FR
dc.typeThesisfr_FR
Collection(s) :Mémoires de Master

Fichier(s) constituant ce document :
Fichier Description TailleFormat 
20 M.BV.pdfBiotechnologie végétale SNV2,4 MBAdobe PDFVoir/Ouvrir


Tous les documents dans DSpace sont protégés par copyright, avec tous droits réservés.