Résumé:
Les procédés de nanostructuration du silicium sont d’une importance croissante
pour la microélectronique, nanoélectronique, capteur chimique, capteur électrochimique, et
stockage d’énergie. Ces applications rendent la fabrication de réseaux de silicium
nanostructuré un sujet qui attire les acteurs majeurs de l’indust rie et de la recherche
académique. Dans ce contexte, les processus dits « parallèles », permettant la fabrication
simultanée de nanostructures individuelles de manière localisée sur une grande surface, Le
but de ce travail est de développer un procédé innovant pour la fabrication de l'électrode
supercapacitive à base de silicium de nanostructuré à faible coût destiné au stockage
d’énergie. Le travail présenté dans ce mémoire consiste en l’étude et l’élaboration de
nanofils poreaux de silicium (PSiNWs) par gravure chimique assistée par un métal en une
seule étape. Dans un second temps, nous avons effectué un dépôt d’oxyde de vanadium sur
là sur la surface des PSiNWs en utilisant une techniques d’évaporation thermique, et
effectue une caractérisation électrochimique de l’électrode pour d’exterminer ses
propriétés. La grande surface spécifique du PSiNWs prédit l’obtention d’une densité de
charge considérablement plus élevée pour le stockage d’énergie, qui est très bénéfique
pour l’applicat ion dans les supercondensateurs et les batteries.
