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https://di.univ-blida.dz/jspui/handle/123456789/25112| Titre: | Implantation ionique et traitements thermiques en technologie silicium |
| Auteur(s): | BAUDRANT, Annie |
| Mots-clés: | Silicium : Substrats.Technologie silicium sur isolant |
| Date de publication: | 2011 |
| Editeur: | Paris |
| Description: | 2.620.180;365p |
| URI/URL: | https://di.univ-blida.dz/jspui/handle/123456789/25112 |
| Collection(s) : | ouvrage |
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