Université Blida 1

LA MODELISATION DU DEPOT DE SiGe PAR CVD

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dc.contributor.author KARA, Siefeddine Abed El Malek
dc.date.accessioned 2022-03-28T09:31:13Z
dc.date.available 2022-03-28T09:31:13Z
dc.date.issued 2011
dc.identifier.uri http://di.univ-blida.dz:8080/jspui/handle/123456789/15026
dc.description 4.540.1.031 ; 100p. fr_FR
dc.description.abstract Aujourd’hui, les procédés de dépôt chimique en phase vapeur (CVD) sont devenus incontournables dans la fabrication des composants électroniques. La connaissance de la thermodynamique, les cinétiques de réaction, les caractéristiques d’écoulement et de transport de masse aident à la miniaturisation des composants. L’objectif de cette thèse est la modélisation des réacteurs de CVD à l’aide d’un code de calcul commercial. L’outil mathématique a été utilisé pour traiter le dépôt de SiGe à partir d’un mélange de dichlorosilane et de germane. Le modèle proposé est basé sur une pyrolyse des deux réactifs dans l’enceinte réactionnelle et leur décomposition sur la surface de la plaquette. Une étude aérodynamique et thermique du réacteur est effectuée avec une analyse de la distribution des espèces chimiques et de la vitesse de dépôt. L’influence de la pression totale, de la température et de la composition du mélange réactif à l’entrée du réacteur est présentée. fr_FR
dc.language.iso fr fr_FR
dc.publisher blida1 fr_FR
dc.subject Aujourd’hui, les procédés de dépôt chimique en phase vapeur (CVD) sont devenus incontournables dans la fabrication des composants électroniques. La connaissance de la thermodynamique, les cinétiques de réaction, les caractéristiques d’écoulement et de transport de masse aident à la miniaturisation des composants. L’objectif de cette thèse est la modélisation des réacteurs de CVD à l’aide d’un code de calcul commercial. L’outil mathématique a été utilisé pour traiter le dépôt de SiGe à partir d’un mélange de dichlorosilane et de germane. Le modèle proposé est basé sur une pyrolyse des deux réactifs dans l’enceinte réactionnelle et leur décomposition sur la surface de la plaquette. Une étude aérodynamique et thermique du réacteur est effectuée avec une analyse de la distribution des espèces chimiques et de la vitesse de dépôt. L’influence de la pression totale, de la température et de la composition du mélange réactif à l’entrée du réacteur est présentée. fr_FR
dc.title LA MODELISATION DU DEPOT DE SiGe PAR CVD fr_FR


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